VEStudio伪造仿真创作平台特色：

　　【全新引擎降级】

　　反对于DX,更好的兼容性。

　　反对于WinXP，Win7操作零星。

　　反对于32位、64位的MAX插件。

　　子属性编纂。

　　自动dds纹理优化工具。

　　PS联动编纂纹理实时更正。

　　【次世代画面】

　　实时日影、雾效、高低、offsetting、反射贴图、BLOOM、SSAO、DOF、GodRays特效、水面、镜面、情景反射渲染。

　　【组件式场景搭建】

　　尺度模子、库模子、粒子模板、材质模板。

　　【材质零星】

　　次世代、水面、混合（反对于MAX分解材质导出为VES的混合材质。）、swf材质（场景中视频如电视画面、等离子广告）、玻璃、天空、卡通等。

　　【粒子零星】

　　可视化编纂。

　　【物理碰撞】

　　碰撞导航、脚色飞翔导航、家养智能。

　　【全新GUI界面与剧本交互】

　　反对于Flash格式GUI界面、自界说菜单交互、鼠标交互、界面自动缩放。

　　【主模块】

　　家养智能（Artificial Intelligence）、交互物体、体积云、陆地模块、海量场景。

　　【场景宣告】

　　数据清静：

　　场景加密输入、版权申明呵护 。

　　网页宣告：

　　自动更新主挨次、场景缓存方式、智能化利便的宣告方式。

　　【教程指南】

　　软件附带全新chm辅助文档、平台自带多个可编纂案例场景。

　　VEStudio2.2正式版：

　　不断更正了Alpha版之后已经知的Bug。

　　更正提升了阴影的功能。

　　削减了PS特效。

　　削减了极点/纹理动画及相关剧本函数。

　　削减了高光贴图反对于。

　　削减了SketchUp的模子导出插件。

　　削减了例子[动画大不雅]。

　　反对于自界说加载界面。

　　…